Продукция | Технологические источники питания | Источники для ионно-плазменных технологий
Источники питания потенциального смещения серии ИПС ( ИПС-3-1.0, ИПС-6-1.0, ИПС-10-1.0, ИПС-15-1.0.)
    Источники серии ИПС предназначены для создания потенциального смещения подложки в установках ионно-плазменного и магнетронного напыления с возможностью получения двухполярных импульсов выходного напряжения. Источники выполнены по схеме высокочастотного резонансного инвертора, что обеспечивает низкий уровень электромагнитных помех и устойчивую работу источника в условиях динамической нагрузки. В качестве силовых ключей используются интеллектуальные IGBT-модули S-серии Mitsubishi Electric.
ИПС имеет встроенный модуль частотной коммутации с системой дугогашения, что позволяет получать на выходе импульсы напряжения отрицательной полярности с регулируемой скважностью (от 10 до 100%) и частотой (от 0-50кГц).
   Применение импульсного режима потенциального смещения позволяет существенно  снижение пространственной неравновесности плазмы газового разряда и поверхностных зарядов на подложке и деталях, а также частоты возникновения «микродуг» с подавлением уже возникших, при низкой передаваемой в них паразитной энергией, что предотвращает их перерастание в самостоятельные дуговые, коронные и поверхностные разряды, тем самым обеспечивая качественный и стабильный процесс нанесения покрытий.
   Выходные параметры и функционал источника может меняться в зависимости от ТЗ заказчика. 

Информация Сферы применения Особенности Модификации Технические и функциональные
характеристики